日前，我院一項實用新型正式獲得國家知識產權局的專利授權，專利名為“一種地下式閥門井（專利號：ZL201921476120.3）”。本專利針對現有的閥井因下挖深度大造成巨大成本代價的技術問題，提供了一種在遵循國家新土地政策的前提下能夠有效減少下挖深度的地下式閥井。即在原有的閥門井蓋板上部設置一用于容納管道閥類的閥艙，通過在填埋時以局部預留方式形成容納管道中排氣閥或蝶閥等高于管道閥門的空間，縮減管道埋深與地面的空間，進而來減少整體的下挖深度，減少人力物力的耗用，節約成本。此類新型閥井已成功應用于日照市城市供水應急備用水源一期工程中，運行管理良好，獲得了業主的一致好評，未來前景可期。